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              射頻放電離子鍍裝置特點

              ①蒸發、離化和加速三種過程可分別獨立控制。離化是靠射頻激勵,而不是靠加速直流電場激勵,基體周圍并不產生陰極暗區。

              ②射頻離子鍍在10-3~10-1Pa高真空環境下也可穩定放電工作,離化率高,可達5%-15%.提高了沉積粒子的總能蟹,改善了鍍層的致密度和結晶的結構。因此制備的鍍層表面缺陷及針孔少,膜層質量均勻致密,純度高.質最好。尤其對制備氧化膜和氮化膜等化合物膜十分有利。

              ③易進行活性反應離子鍍.合成化合物和對非金屬基體沉積具有優勢。

              ④基體沮升低.操作方便,易于控制。

              射頻離子鍍的不足之處是:

              ①由于在高真空下鍍膜,沉積拉子受氣體粒子的碰撞散射較小,繞鍍性差。

              ②射頻輻射對人體有傷害,必須注意采用合適的電源與負載的藕合匹配網絡.同時要有良好的接地,防止射預泄翻。另外,要有良好的射振屏蔽,減少或防止射頻電源對側盆儀表的干擾。


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